 |
|
|
11.МБ.13. Высокоэффективная мембранная маска для электронной проекционной литографии
High-performance membrane mask for electron projection lithography: Pap. 44th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication, Rancho Mirage, Calif., 30 May–2 June, 2000. Yamashita Hiroshi, Amemiya Isao, Nomura Eiichi, Nakajima Ken, Nozue Hiroshi. J. Vac. Sci. and Technol. B. 2000. 18, № 6, с. 3237–3241, 6, 2 табл. Библ. 11. Англ.
Разработана высокоэффективная мембранная маска для установки проекционной литографии. Обсуждается конструкция маски, энергетич. распределение электронов, прошедших маску, выбор материалов. Оптим. конструкция маски разработана с использованием моделирования электронного рассеяния. Маска состоит из алмазоподобного углеродного отражателя толщ. 600 нм на алмазоподобной углеродной МБ толщ. 30–60 нм. Получены электронное пропускание 80% и контраст луча 100% с подходящей ограничивающей апертурой. Успешно изготовлена МБ 1 мм2 толщ. до 30 нм. Путем уменьшения толщины МБ интенсивность электронов с нулевыми потерями будет увеличиваться, и потери первого плазмона будут уменьшаться. Это позволит использовать широкий полуугол луча и в результате улучшить разрешение и произ-сть установки экспонирования.
Ключевые слова: акк литография% н электронная, проекционная% акк маски% н мембранные% акк углеродистые материалы% н алмазоподобные% к мембраны неорганические% акк электронные пучки% н установка для экспонирования
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
