 |
|
|
14.МБ.12. Моделирование и экспериментальное изучение чувствительности к pH тонких пленок AlN
Simulation and experimental study of the pH-sensing property for AlN thin films. Chiang Jung-Lung, Chen Ying-Chung, Chou Jung-Chuan. Jap. J. Appl. Phys. Pt 1. 2001. 40, № 10, с. 5900–5904, 9. Библ. 23. Англ.
Исследовали применение тонких пленок AlN в кач-ве МБ в ионно-чувствит. ПТ для измерения pH. Расчеты показывают, что ионно-чувствит. ПТ с AlN/SiO2 затвором имеет высокую чувствительность к pH и линейные ВАХ и ВФХ. Рассчитанная pH-чувствительность составляет 52–59,8 мВ/pH при pH=1–14. Обсуждены результаты измерений ВАХ и ВФХ для ПТ с AlN/SiO2 затворами с ПЛ AlN толщиной 80–120 нм, осажденными реактивным распылением.
Ключевые слова: акк полупроводники% н ПЛ тонкие% асп алюминий% п нитриды% н AlN% акк кремний диоксид% н подложка% акк мембраны неорганические% н изготовление% акк распыление% н реактивное, использование% акк pH определение% акк мембранный потенциал% н ВАХ, ВФХ
|
|
|
|
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам информацию, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервисов Google Analytics и Яндекс.Метрика). Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в настройках своего браузера.
Сервер создается при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований
Не разрешается копирование
материалов и размещение на других Web-сайтах
Вебдизайн: Copyright (C) И. Миняйлова и В. Миняйлов
Copyright (C) Химический факультет МГУ
Написать письмо редактору
|
